空心阴极离子镀沉积Ti（CN）的最佳工艺参数及其耐磨性能研究
,£\Gh.*Ê 7www.hrconsult.com.cn+*r6©üB．B对HS3基体而言，本试验所选的三个因子中,
ralph lauren skjorter，因子B的作用显著，因子A、c的作用较为显著。由计算表看出，Kl>K【!>K…K2l>K>KK3j>K”>K…因此较优的水平是A3Bl由以上分析可知，HCD沉积Ti(CN)膜的最佳工艺参数为：l{，／P．=31；=0026Pa；T=250℃．2Ti(CN)膜的显微硬度及耐磨性试验：用IIMT一1显微硬度计测定了Ti(CN)的显微硬度，结果如表4．：所加载荷为20g，保持时间为15秒。对采用最佳工艺参数沉积的T(CN)膜与TiCTiN膜进行了耐磨性对比试验．试验在SKOD磨损试验机上完成试验规范如下：磨轮为硬质台金磨轮，直径30ram，转速675r／min，铬酸钾冷却液冷却，在3000转后测量磨痕宽度，根据磨痕宽度可计算出磨损量试验结果如图I表4膜层的显微硬度值显徽硬度值(Hv¨岫)膜层38CrSiHs30[155基体。3BCrSi基蓐由表4及斟1可*¨，不论是38CrSi还是HS3基体，Ti(CN)膜的显微硬度比TiNTiC膜要高，Ti(CN)膜的耐磨性能优于TiN、TiC膜在38CrSi上沉积Ti(CN)骥比在HS3上沉积Ti(CN)膜提高基体的耐磨性能的幅度更大，分别为35倍和2．6倍。试验结果表明，由于Ti(CN)膜具有比T【N、TiC膜更高的硬度，而Ti(CN)的耐磨性能更优异，这与文献[6]的结论一致3．Ti(CN)膜的X射线衍射分析：从XRD分析结果(表5、图2)可见,
abercrombie fitch hamburg，膜层I1=J单一的Ti(CN)组成，没有rr]的单质捌}B现这-兑明T主要以化台态存在由表5、67可知，Ti(ON)表现出(111)择优取向，其品而距小于TiC的品面间距，大于TiN的品面间距随着C／N的增大，Ti(CN)的晶面间距增大,
abercrombie hamburg，其硬度增高当P㈠{／PN为3：1时，n(cN)的硬度最高，具有最佳的耐磨性能。HHolleck认为，当TK"中的部分c原子被原子置换时．TiN—TiC复合膜层的硬度最高J表5XRD分析主要结果表6TiC、TiN的标准d值28．空心阴极离子镀沉积Ti(CN)的最佳工艺参数及其耐睹性能研究一陈罡等表7试样的显微硬度值2,KRD舒析结果三、主要结论(1)在本文提供的发备条件下，当镀膜工艺参数为P总=0．026Pa；P(儿／PN：31；T烘=250℃,
abercrombie online shop；V=一50V时,
abercrombie madrid，沉积的Ti(C)膜层硬度最高(2)在相同的工艺条件下，沉积在不同基体上的膜层的硬度变化成相同或相似的趋势，为以后试验中替代材料的选用提供了一定的实验依据,
abercrombie deutschland。．(3)Ti(CN)膜的硬度高于TiNTiC膜，其耐磨性能优于TiN、TiC膜参考文献[1]EBergmann，JVogel，JVac．SciTechnolA，198[J．4：2731[2]DTQuinto，CJPetrovsky，JIHuntCuttingTootEng1987，46【3]CharlesWick，ManufacturingEngrg，May1987，38[4]NarkPodob,
ralph lauren polo，GrahamTLeggeHeattreating，Apri】1986．58[5]OKnotek，FImffler，GKramerSurfCoat．TechnoI,
abercrombie singapore，1993，61：320—325[6]SyamalKGhost，MarkSKohlerSurf(-'oatTechno1．，1992，54／55：466—469[7]H．Hoileck，H．SchuItzSurf．CoatTech．nol，1988．36：707，麓；黧}
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